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第416章 把辰芯微做成世界第一的芯片制造公司（第1页）

193nm的干式DUV光刻机对阿斯麦来说，并不是多高大上的技术。

早在上个世纪90年代，他们就整了出来。

随后因为一个林姓的华裔研究出了浸没式技术。

其加入了台鸡电，在让台鸡电快速扩张的同时，也让阿斯麦成为了行业中的领头者。

在泥康这些日企苦苦研究干式光刻机的时候，他们的浸润式光刻技术，让阿斯麦一举成为了领先。

时至今天，阿斯麦已经研制了EUV光刻机，行业领先地位，再难撼动。

但是否意味着阿斯麦永远不会衰落呢？

并不是这样。

技术的突破，甚至是技术的更新，带来技术弯道超车，都可能让一个原本领先的技术公司，再次落后。

江奕辰就坚定地这么认为。

也不断地开展各类延伸性研究。

特别是自己的个人实验室，并不是江奕辰在主要研究光刻技术的时候，他们就闲着。

相反，江奕辰也给了不少的研究课题，让孙阳、罗钰牵头开展。

只要他们研究出来的技术，都进入江奕辰奕辰集团的技术鱼池。

一旦哪个技术获得应用，那么他们这些人也将会有巨大的技术分红。

如今大的技术不说，但江奕辰将一种电致发光材料交给他们研究之后，还真让他们整了新的东西。

不过江奕辰现在没有理会。

新光刻技术正在实验。

张成研究的高分子溶液暂时失败，找的数十个材料，虽然取得了一定效果，但却因为各种原因，没有办法采用。

唯独好一点的，制备纯度极高的溶液难度大不说，成本也高，还容易侵蚀衬底，让光刻的效果消散。

最后江奕辰把重点放在了孔连华的研究上。

孔连华研究的是一种特制的晶体。

在第一阶段研究的过程中，孔连华在江奕辰的提醒下就制备了超过10种的符合折光率条件的晶体。

全部超过超纯水的折光率。

其中最好的一种晶体，可以让光的波长，从193nm缩减到90nm。

这意味着可以轻易地制备14nm的芯片。

因为光的波长是横向尺寸，把光比作弯曲的钻头，弯曲成正弦波样子，那么弯曲一个来回，钻头的长就是波长。

用这个钻头来打孔，就会晃动，这是光波的打在被爆光的面上的精细程度。

如果采用多重曝光、鳍式场效应晶体管FinFET技术，突破到7nn，甚至5nm估计也不成问题。

只是这种晶体的缺点也较多，特别是高温形变问题是难点中的难点。

光刻，是光在晶圆上进行雕刻，

光不断地冲击，会让晶圆发热。

在晶圆上面再加一个晶体，比增加一个透镜的难度要大得多。

最后选定的，是镓镁晶体。

这种晶体，在特殊的技术处理之后，能够适应较高的温度，高温形变上能够有效改善。

当然，这种也只是改善，并不能完全解决。

“江总，我们的专家们厉害，把这个系统破解了，增加了一道非接触式光刻系统。”孔连华解释道，“就是咱们这么一搞，出问题后要阿斯麦的工程师来修就不可能的事了。”

不仅不能让人来修，还不能让人知道。

江奕辰并没有直接回复，而是看着一片测试晶圆的情况。

“检测结果，28nm工艺。”

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